Trosolwg Cynnyrch

 

Mae Offer Ffilm Tenau Cyfansawdd PVD yn blatfform dyddodiad gwactod diwydiannol sydd wedi'i beiriannu ar gyfer adneuo ffilmiau tenau aml-haen, aloi a nanogyfansawdd. Gan integreiddio sputtering magnetron a ffynonellau arc cathodig o fewn un siambr gwactod, mae'r system yn galluogi rheolaeth fanwl gywir dros ficrostrwythur ffilm, straen gweddilliol, ac adlyniad rhyngwynebol. Wedi'i adeiladu ar gyfer cynhyrchu parhaus ac ymchwil a datblygu uwch, mae'r platfform yn cynnwys swbstradau metelaidd, cerameg a pholymer gyda geometregau siambr graddadwy.

 
  • Offer Dyddodiad Gwactod Cyfansawdd PVD
    Mae'r llwyfan dyddodiad gwactod cyfansawdd PVD diwydiannol hwn yn integreiddio technegau dyddodiad lluosog i amgylchedd siambr sengl i adneuo ffilmiau tenau unffurf, aml-haen metelaidd, aloi neu...
    gweld mwy
  • System Dyddodiad Ffilm Tenau Hybrid PVD
    Mae System Dyddodiad Ffilm Tenau Hybrid PVD yn integreiddio anweddiad thermol, anweddiad pelydr electron (e-beam), a sbwteri magnetron RF/DC o fewn un pensaernïaeth gwactod. Mae'r platfform hwn yn...
    gweld mwy
  • PVD Aml-Prosesu Offer Ffilm Tenau
    Mae'r PVD Multi-Process Thin Film Equipment yn blatfform dyddodiad gwactod integredig sydd wedi'i beiriannu i gyfuno technegau gwneuthuriad ffilm tenau lluosog - gan gynnwys Sputtering Magnetron...
    gweld mwy
  • Offer Dyddodiad Cyfansawdd PVD
    Mae Offer Dyddodiad Cyfansawdd PVD diwydiannol wedi'i beiriannu ar gyfer gwneuthuriad ffilm tenau aml-gydran, amlhaenog a nano-gyfansoddiadol. Mae'r system yn integreiddio anweddiad thermol,...
    gweld mwy
  • System Ffilm Tenau Cyfansawdd PVD
    System caenu gwactod gradd ddiwydiannol sy'n integreiddio sputtering magnetron (RF/DC/HiPIMS) ac anweddiad arc cathodig. Wedi'i gynllunio ar gyfer dyddodiad ffilm tenau, aml-haen, aloi a nano...
    gweld mwy
  • Offer Ffilm Tenau Cyfansawdd PVD
    Mae Offer Ffilm Tenau Cyfansawdd PVD yn blatfform gwactod diwydiannol sydd wedi'i gynllunio i syntheseiddio ffilmiau tenau aml-haen, aloi a graddedig. Wedi'i adeiladu ar bensaernïaeth fodiwlaidd...
    gweld mwy
 
Manylebau Technegol

 

Paramedr

Amrediad Manyleb

Pwysedd Gwactod Ultimate

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Pwysau Gweithio

0.1 Pa - 5.0 Pa

Tymheredd swbstrad

Amgylchynol i 800 gradd (PID dolen ar gau-reolir)

Ffynonellau Dyddodiad

Ffurfweddadwy: Sputtering Magnetron DC/RF, DC pwls, Arc Cathodig wedi'i Hidlo

Trwch Unffurfiaeth

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Deunydd Siambr

304L/316L Dur Di-staen, daear fecanyddol ac electro-sglein (Ra<= 0.4 um)

Integreiddio Cyflenwad Pŵer

Generaduron MF (10-100 kHz), generaduron RF (13.56 MHz), tuedd DC pwls

System Reoli

Diwydiannol PLC + IPC gyda gweithredu ryseitiau awtomataidd, monitro cyd-gloi, a logio data swp

 

Proses Dyddodiad Cyfansawdd

Mae'r system yn defnyddio pensaernïaeth dyddodiad anwedd ffisegol hybrid sy'n cyfuno technolegau chwistrellu magnetron a arc cathodig.

Synergedd Aml-Ffynhonnell:

Mae gweithredu catodau lluosog ar yr un pryd neu'n ddilyniannol yn caniatáu ar gyfer trawsnewidiadau cyfansoddiadol sydyn neu raddedig ar draws y pentwr ffilm.

 

Ion Ysgythru Cyn-Glanhau:

Mae camau glanhau plasma RF neu DC yn cael gwared ar ocsidau brodorol a halogion arwyneb cyn eu dyddodi i wneud y mwyaf o araen i-adlyniad y swbstrad.

Rheoli Dyddodiad Adweithiol:

Mae sbectrosgopeg allyriadau optegol dolen gaeedig (OES) yn rheoleiddio chwistrelliad nwy adweithiol (O2, N2, C2H2) i gynnal stoichiometreg cyfansawdd sefydlog ac atal gwenwyno targed.

Bias swbstrad:

Mae cyflenwadau pŵer rhagfarn pwls cydamserol yn peledu'r ffilm gynyddol ag ïonau ynni uchel, gan ddwysáu'r microstrwythur a theilwra straen cywasgol gweddilliol.

 

Deunyddiau Ffilm

Mae'r offer yn cefnogi sbectrwm eang o ddeunyddiau targed ar gyfer gofynion swyddogaethol wedi'u teilwra:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Nitridau a charbidau metel trosiannol:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN ar gyfer gwisgo a gwrthsefyll cyrydiad.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Systemau Nanogyfansawdd ac Aml-haen:

TiSiN, AlTiSiN, nanohaenwyr metel/ceramig ar gyfer caledwch eithafol a-sefydlogrwydd thermol tymheredd uchel.

 
PVD Composite Thin Film System

Ocsidau Dargludol Tryloyw (TCO):

ITO, AZO, IGZO ar gyfer cymwysiadau optoelectroneg a ffotofoltäig.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Metelau Pur ac aloion:

Ti, Cr, Al, Cu, Dur Di-staen, NiCr ar gyfer cyswllt trydanol a haenau rhwystr trylediad.

 
Ceisiadau
 
 
 

Offer torri manwl gywir:

Dyddodiad haenau ffrithiant hynod galed, isel (ee, TiAlN) ar fewnosodiadau carbid, driliau, a melinau terfyn i ymestyn oes weithredol o dan lwythi thermol uchel.

 
 

Cydrannau Modurol:

Ffilmiau sy'n gwrthsefyll ffrithiant ar gylchoedd piston, rhannau chwistrellu tanwydd, a chydosodiadau gêr.

 
 

Optoelectroneg ac Arddangosfeydd:

Haenau ocsid dargludol trawsyrru isel ar gyfer paneli cyffwrdd a swbstradau celloedd solar.

 
 

Dyfeisiau Meddygol:

Cotiadau biogydnaws ac sy'n gwrthsefyll traul ar offer llawfeddygol a mewnblaniadau orthopedig.

 

 

Addasu a Chyfluniad System

Mae cyfluniadau peirianneg yn cael eu haddasu i gyfyngiadau cyfleuster cynhyrchu penodol a ryseitiau proses:

Maint y Siambr:

Opsiynau siambr silindrog neu hirsgwar yn amrywio o systemau swp ymchwil a datblygu (diamedr 500 mm) i systemau cloi llwyth cynhyrchu ar raddfa fawr (1000 mm+).

01

Dewis Ystafell Bwmpio:

Cydweddu chwythwyr gwreiddiau, pympiau turbomoleciwlaidd, a phympiau cryogenig yn seiliedig ar amserau gollwng pwmp gofynnol a phroffiliau llwyth nwy.

02

Gosodiad swbstrad:

Camau cylchdroi planedol wedi'u teilwra, cylchdro lloeren 3-echel, neu fodiwlau rholio i rolio wedi'u cynllunio ar gyfer geometregau 3D cymhleth neu weoedd di-dor.

03

Lefel Awtomatiaeth:

Ffurfweddiadau llwyth llaw lled-awtomataidd neu systemau trosglwyddo gwactod cwbl awtomataidd gyda thrin swbstrad robotig.

04

 

Gweithgynhyrchu a Rheoli Ansawdd
 

Canfod Gollyngiadau:

Mae pob siambr wactod yn cael ei phrofi gollwng sbectromedr màs heliwm i drothwy o < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Arolygiad Weld:

Mae weldiadau ochr gwactod yn cael eu weldio TIG, eu malu'n fân a'u sgleinio, ac yna archwiliad treiddiol pelydr-X neu liw ar gais.

Cydymffurfiad Trydanol a Diogelwch:

Paneli rheoli wedi'u hadeiladu yn unol â safonau NFPA 79 neu CE / IEC, sy'n cynnwys cyd-gloeon caledwedd ar gyfer llif dŵr, pwysedd nwy, a diogelwch trydanol.

Prawf Derbyn Ffatri (FAT):

Mae profion cyn cludo yn cynnwys beicio rhedeg parhaus 72{{2}awr sych, gwirio perfformiad dan wactod, a dyddodiad cotio prawf gan ddefnyddio ryseitiau a bennir gan y cleient.

 

 

Gosod a Chymorth Technegol

Canllawiau Paratoi Safle:Darperir dogfen gofynion cyfleuster gynhwysfawr yn manylu ar ryngwynebau cyfleustodau (llif/pwysau dŵr oeri, llwyth trydanol, aer cywasgedig, gwacáu).


Ar-Comisiynu Safle:Mae peirianwyr gwasanaeth maes yn gweithredu aliniad mecanyddol, gwiriadau gwactod yn gollwng, clymu trydanol, a graddnodi cychwynnol.


Tiwnio Rysáit Proses:Cydweithio ar-safle gyda metelegwyr cleient a pheirianwyr proses i gloi paramedrau trwch ffilm targed, straen a chaledwch.


Cymorth Cylch Bywyd:Rhyngwyneb diagnosteg o bell, rhestr eiddo darnau sbâr lleol, a rhaglenni cynnal a chadw ataliol wedi'u hamserlennu.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

FAQ

 

 

C: Beth yw'r amser pwmpio arferol-i gyrraedd y pwysedd sylfaenol?

A: Gan ddefnyddio ffurfweddiadau gwactod uchel safonol (pympiau tyrbomoleciwlaidd neu cryogenig wedi'u paru â phympiau cefn gwreiddiau / ceiliog cylchdro), mae'r siambr yn gwacáu o'r atmosffer i <5.0 x 10^-4 Pa o fewn 25 i 40 munud, yn dibynnu ar gyfaint y siambr a llwyth allnwyo lleithder.

C: A all y system newid rhwng moddau sbwteri adweithiol ac anadweithiol yn awtomatig?

A: Ydw. Mae'r meddalwedd rheoli PLC yn rheoli rheolwyr llif màs (MFCs) ac allbynnau cyflenwad pŵer yn ddeinamig, gan ganiatáu pontio awtomataidd rhwng dyddodiad metelaidd a ffurfio cyfansawdd adweithiol o fewn un cylchred proses.

C: Pa geometregau swbstrad y gall y cam cylchdro planedol safonol eu cynnwys?

A: Mae'r gosodiad planedol 3-echel safonol yn trin cydrannau 3D cymhleth fel offer torri a falfiau modurol. Gellir peiriannu jigiau personol ar gyfer swbstradau gwastad hyd at 400 mm x 400 mm neu roliau silindrog.

C: Sut ydych chi'n sicrhau unffurfiaeth trwch ffilm ar draws sypiau mawr?

A: Mae unffurfiaeth yn cael ei sicrhau trwy gatod wedi'i optimeiddio-i-swbstrad pellter, efelychu proffil maes magnetig lleol, a chylchdroi planedol aml-echel. Mae gwir unffurfiaeth yn cael ei wirio trwy brofion sampl tystion yn ystod FAT.

C: Beth yw'r gofynion cyfleustodau ar gyfer uned ddiwydiannol safonol?

A: Yn nodweddiadol mae angen 3 cham 380V / 480V (50/60Hz), cyflenwad dŵr oeri oer (tua 15 i 20 gradd ar 3 i 4 bar), aer cywasgedig (6 bar) ar gyfer falfiau niwmatig, ac aer sych glân neu nitrogen ar gyfer awyru. Mae union lwythi yn amrywio yn ôl cyfluniad cyflenwad pŵer.

Rydyn ni'n cael ein hadnabod yn dda fel un o'r prif wneuthurwyr a chyflenwyr offer ffilm tenau cyfansawdd pvd yn Tsieina. Os ydych chi'n mynd i brynu offer ffilm tenau cyfansawdd pvd wedi'i addasu a wnaed yn Tsieina, croeso i gael pricelist o'n ffatri. Am ymgynghoriad pris, cysylltwch â ni.

Anfon ymchwiliad
Cysylltwch â nios oes gennych unrhyw gwestiwn

Gallwch naill ai gysylltu â ni dros y ffôn, e-bost neu ffurflen ar-lein isod. Bydd ein harbenigwr yn cysylltu â chi yn ôl yn fuan.

Cysylltwch nawr!